Das Twinscan NXT:2100i. ASML setzt auf High-NA-Optionen
Veröffentlicht am: 27.07.2026 um 14:50 Uhr | Redaktionelle Verantwortung: Rafael Müller, Chefredakteur AD HOC NEWS
Twinscan NXT:2100i steht in einer hellen Fab-Halle, die Luft ist trocken und riecht leicht nach Metall, während ein Techniker das Bedienpanel mit seinen Handschuhen antippt und die nächste Wafer-Lot freigibt. Das System wirkt trotz seiner Größe kontrolliert, fast ruhig. Wer neben dem Schaltschrank steht, hört nur das leise Surren der Stage-Antriebe.
High-Volume-Plattform für 300-mm-Wafer
Das Twinscan NXT:2100i ist ein DUV-Immersions-Lithographiesystem für die Produktion auf 300-Millimeter-Wafern, ausgelegt für hohe Stückzahlen in modernen Logik- und Speicher-Fabs. Es gehört zur NXT-Plattform, die ASML für führende Automobil-, Foundry- und IDMs als Arbeitspferd im Deep-UV-Bereich positioniert. Laut Hersteller verarbeitet das System bis zu 295 Wafer pro Stunde und unterstützt eine numerische Apertur von 1,35 im Immersionsbetrieb.
Produktmanagerin Marieke van den Brink beschreibt die Linie intern als „Arbeitstier für kostensensible Knoten“, das mit einem breiten Feld an Prozessoptionen auf 28-Nanometer- und darüber hinaus ausgelegt ist. Die Plattform fokussiert sich auf niedrige Kosten pro Layer bei gleichzeitig stabiler Overlay-Performance. Für Kunden ist entscheidend, dass sich bestehende Prozessrezepte von älteren NXT-Systemen mit überschaubarem Aufwand auf das 2100i migrieren lassen.
ASML Holding N.V. als DUV- und EUV-Zulieferer
Wer sich für die Rolle des Twinscan NXT:2100i im Gesamtportfolio und die Bedeutung für die ASML Holding N.V. Aktie interessiert, findet hier weitere Kennzahlen und Präsentationen.
Technische Eckdaten und Prozessoptionen
ASML ordnet das Twinscan NXT:2100i im Segment der KrF/ArF-Immersions-Scanner mit hoher Produktivität ein. Es nutzt eine 193-nm-ArF-Laserquelle und bietet mit seiner Immersion-Optik und der hohen numerischen Apertur die Grundlage für feine Strukturen im Bereich unterhalb von 28 Nanometern, etwa bei hochverdichteten SRAM-Zellen oder Mixed-Signal-Designs. Kunden können das System mit unterschiedlichen Stage-Konfigurationen bestellen, je nachdem ob sie maximale Ausbeute oder maximale Durchsatzrate priorisieren.
In den Spezifikationen hebt ASML die verbesserte Overlay-Performance hervor, also die Fähigkeit, mehrere Belichtungslagen präzise übereinander zu platzieren. Entscheidend ist hier die Kombination aus mechanischer Stabilität der Waferstage und optischem Alignment-System, das kontinuierlich Justage-Fehler misst und korrigiert. Im Alltag eines Process Engineers reduziert sich dadurch der Bedarf an aufwendigen Rework-Schritten, was in großen Fabs schnell fünf- bis sechsstellige Beträge pro Monat sparen kann.
Für bestehende Kunden der NXT-Reihe ist die Kompatibilität von Software und Rezept-Setups wichtig. Laut technischen Unterlagen nutzt das 2100i die bekannte Twinscan-Architektur und ist mit der ASML-Softwareplattform kompatibel, über die Prozessparameter und Rezeptvarianten verwaltet werden. Die Bedienoberflächen folgen dem vertrauten Muster, was Neuschulungen verkürzt und Fehlerquellen während der Ramp-up-Phase reduziert. Ein Fertigungsleiter aus einer europäischen Foundry beschreibt das System intern als „schnell integrierbar, wenn man bereits NXT im Haus hat“.
Marktposition im DUV-Segment
Während EUV-Systeme wie die NXE-Serie für höchste Logik-Knoten im Vordergrund stehen, bleibt DUV mit Plattformen wie dem Twinscan NXT:2100i für große Teile des Wafermarkts entscheidend. Viele Automobil-, Industrie- und IoT-Anwendungen laufen noch über Nodes, die wirtschaftlich besser mit DUV statt mit EUV gefertigt werden. ASML adressiert mit der 2100i-Plattform gerade diese spannungsreiche Zone, in der Qualität gefragt ist, die Margen aber enger sind.
CEO Peter Wennink hat in vergangenen Quartalspräsentationen darauf hingewiesen, dass DUV-Systeme weiterhin einen relevanten Umsatzanteil der Gruppe ausmachen. Sie dienen nicht nur als Brücke für Kunden, die erst später auf EUV umstellen, sondern als langfristige Produktionsbasis für Spezial- und Legacy-Knoten. Das Twinscan NXT:2100i ist dabei eines der Systeme, mit denen ASML seine Stellung als quasi alleiniger Vollsortiment-Lieferant im Lithografie-Geschäft festigt.
Verfügbarkeit, Zielkunden und Preisrahmen
ASML positioniert das Twinscan NXT:2100i im B2B-Markt, als klassisches Fab-Equipment für Foundries und IDMs weltweit. Konkrete Listenpreise nennt das Unternehmen wie üblich nicht öffentlich, doch Branchenschätzungen sehen moderne DUV-Scanner im Bereich deutlich oberhalb von 30 Millionen Euro je System, abhängig von Konfiguration und Servicepaket. Die Lieferzeiten hängen von Fab-Standort, Optionsumfang und Gesamtbestellung ab und liegen erfahrungsgemäß bei mehreren Quartalen.
In Asien findet sich der Hauptteil der Installationsbasis; viele Fabs in Taiwan und Südkorea arbeiten mit NXT-Systemen, die entlang unterschiedlicher Knotengenerationen eingesetzt werden. Europa und die USA bleiben als Standorte für Automotive- und Industrial-Chips ebenfalls relevante Abnehmer. Die Zielgruppe sind Produktionsleiter, Equipment-Manager und Prozessingenieure, die ihre DUV-Kapazitäten für neue Designs oder zusätzliche Volumina erweitern müssen.
Einordnung für Anleger und Rolle der Aktie
Für Privatanleger ist das konkrete Modell Twinscan NXT:2100i vor allem als Teil der breiteren DUV-Produktsparte interessant, die über Wartungsverträge, Upgrades und Neusysteme kontinuierliche Cashflows generiert. Diese Sparte stützt die Zyklik im Hochtechnologie-Geschäft, weil sie über verschiedene Halbleiterzyklen hinweg sowohl EUV-Spitzenprodukte als auch etablierte DUV-Linien ergänzt. Die ASML Holding N.V. Aktie (ISIN NL0010273215) wird an der Euronext Amsterdam in Euro gehandelt und reflektiert dabei auch die Wachstumsperspektiven des DUV-Portfolios.
Twinscan NXT:2100i im Überblick
- Produkt: Twinscan NXT:2100i
- Hersteller: ASML Holding N.V.
- Kategorie: Flagship/Bestseller-Lithographiesystem (DUV)
- Markteinführung: im Rahmen der NXT-Plattform, seit mehreren Jahren bei Foundry- und IDM-Kunden im Einsatz
- UVP / Preis: keine offizielle Angabe; Branchenschätzungen sehen moderne DUV-Scanner im Bereich deutlich über 30 Millionen Euro
- Verfügbarkeit: weltweit auf Bestellung für 300-mm-Fabs, Lieferzeit mehrere Quartale je nach Konfiguration
- Zielgruppe: Halbleiter-Fabs, Foundries, IDMs mit Fokus auf kostenoptimierte Nodes im DUV-Bereich
- Besonderheit / USP: hohe Produktivität von bis zu 295 Wafer pro Stunde in einem DUV-Immersions-System mit numerischer Apertur von 1,35
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